世界のEUVフォトレジスト市場：主要メーカーランキングと市場シェア分析2026

QYResearch – グローバル市場の最新洞察 EUV フォトレジストの定義や市場規模概要 EUV フォトレジストは、極端紫外線（EUV）リソグラフィを用いた半導体デバイス製造において不可欠な 材料である。EUV リソグラフィは、波長約 13.5 ナノメートルの EUV 光を利用し、半導体ウェーハ上に極 めて微細なパターンを形成する先端的な製造技術である。EUV フォトレジストは、EUV 光の照射によって 化学的変化を生じる感光性材料であり、その特性によりウェーハ上に高度に精密な構造を転写すること が可能となる。すなわち、次世代半導体の微細化と高性能化を支える基盤材料として、極めて重要な役 割を果たしている。 EUV フォトレジスト市場の主要セグメント 本レポートでは、以下のカテゴリーに基づいて市場のセグメントを分析しています。 1.製品別：EUV (Chemical)、 EUV (Non-Chemical) EUV フォトレジスト製品別に売上、市場シェア、販売量の詳細を提供し、各製品の価格と市場トレンドを 考察します 2.用途別：Logic IC、 Memory、 Others EUV フォトレジスト用途別に市場データを分析し、売上、市場シェア、販売量、価格動向について詳述し ます。 3.企業別：TOK、JSR、 Shin-Etsu Chemical、 Fujifilm、Sumitomo Chemical、 Dongjin Semichem、 DuPont、 Lam Research Copyright © QYResearch | [email protected] |https://www.qyresearch.co.jp

QYResearch – グローバル市場の最新洞察 EUV フォトレジスト市場の主要企業には、各社の戦略、競争力、及び市場でのポジションについて詳しく 分析しています。 図. グローバル EUV フォトレジスト市場規模（百万米ドル）、2024-2031 年 QYResearch が発表した新たな市場調査レポート「EUV フォトレジスト―グローバル市場シェアとランキ ング、全体の売上と需要予測、2026～2032」によると、世界の EUV フォトレジスト市場規模は 2024 年の 約 176 百万米ドルから 2025 年の 224 百万米ドルへと順調に拡大すると見込まれ、予測期間中は年平均成 長率（CAGR）24.2%で成長し、2031 年には 822 百万米ドルに達すると予測されている。 上記データは QYResearch のレポートに基づいています：「EUV フォトレジスト―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要 予測、2026～2032」。Email：[email protected] 成長を支える原動力 Copyright © QYResearch | [email protected] |https://www.qyresearch.co.jp

• https://www.qyresearch.co.jp/reports/1626873/euv-photoresists

QYResearch – グローバル市場の最新洞察 1.グローバルな半導体需要による継続的な成長圧力 EUV フォトレジスト市場の拡大は、まず半導体産業における先端プロセス需要の高まりによって支えられ ている。AI、5G ネットワーク、データセンター、スマートカーといった技術の普及が進む中、先端半導 体の量産が加速し、その中核工程として EUV リソグラフィが不可欠となっている。高性能プロセッサや 高集積化 IC の需要が継続的に拡大することで、EUV フォトレジストの重要性は一段と高まり、日本企業 にとって長期的かつ安定的な市場基盤が形成されている。 2.先端プロセスノードの進化に伴う性能向上ニーズ 半導体製造が 5nm 以下のノードへ進むにつれ、EUV リソグラフィは選択的工程から必須工程へと変化して いる。プロセスの世代が進むごとに、EUV フォトレジストには分解能、ラインエッジラフネス、耐エッチ ング性など、より厳格な性能が求められる。日本企業は配合設計やポリマー構造制御において長年培っ た技術基盤を背景に、こうした要求に応える形で継続的な発展機会を獲得している。 3.材料科学・化学工業分野における優位性 EUV フォトレジストの競争力は、材料科学および化学技術の蓄積によって支えられており、日本はこの領 域で世界的な優位性を維持している。EUV フォトレジストは分子設計や純度に極めて高い精度が求められ るが、日本企業は厳格な品質管理と高度なプロセス制御を通じて、量産においても低欠陥・高均一性を実 現している。さらに、原料合成やサプライチェーン統合でも強みを持ち、安定的な供給体制を確立して いる。加えて、国内外の半導体メーカーとの共同開発により、EUV フォトレジストの配合最適化を迅速に 行える「研究—生産—応用」の一体型サイクルを構築している点も、日本の競争優位性を支える重要な 要素である。 市場の将来機会 1.技術世代交代がもたらす先導的ポジション 産業が高 NA EUV へ移行する局面において、EUV フォトレジストは最初に検証され、適用が進む主要材料 となる。日本企業は深い研究開発体制と高度な協業ネットワークを強みとし、次世代フォトレジスト規 Copyright © QYResearch | [email protected] |https://www.qyresearch.co.jp

QYResearch – グローバル市場の最新洞察 格の形成において主導的役割を果たしている。先端プロセスのロードマップと整合した製品戦略を展開 することで、技術進化の最前線に立ち続けている。 2.応用領域の多角化 EUV フォトレジストの需要は、従来のロジック向けからメモリや各種特殊プロセス分野へ広がりつつある。 今後は先端 DRAM ノード、CMOS イメージセンサー、パワーデバイス、車載電子部品などでも EUV 技術の導 入が進む可能性が高く、高性能フォトレジストの新たな需要が生まれる。日本企業は技術の幅広さとカ スタマイズ対応力を活かし、EUV フォトレジストを軸に多様な市場へ参入できる余地が大きい。 3.「材料」から「ソリューション」への高度化 将来的な競争軸は、単一のフォトレジスト製品ではなく、特定ノードを対象とした包括的プロセスソリ ューションへと移行していく。日本企業は、EUV フォトレジストに加え、適合性の高い現像液、塗布・現 像装置、最適化されたプロセス条件パッケージを組み合わせた「一体型ソリューション」を提供するこ とで、顧客の製造工程に深く組み込まれることが可能となる。これにより、顧客粘着性や付加価値の向 上、代替困難性の強化が期待される。 直面する市場の障壁 1.技術的課題と高額な研究開発負担 日本における EUV フォトレジストの開発では、ランダム欠陥やラインエッジラフネスといった技術課題 が依然として量産歩留まりの向上を阻む要因となっている。これらを克服するには、長期にわたる基礎 研究、配合開発、プロセス最適化への多額の投資が不可欠である。特に高 NA EUV 対応フォトレジストの 開発では、材料設計、装置適合性、製造プロセスの高度制御など、極めて高い難易度が要求され、日本 企業に大きな技術的・財務的負担が生じている。 2.日本国内サプライチェーン構造が抱える長期的課題 EUV フォトレジストは高度で複雑な戦略材料であり、日本国内では研究開発や生産能力の強化が進む一方、 先端材料の供給体制や実証環境、関連装置との連携など、サプライチェーン全体の底上げが引き続き求 められている。国内の自給力が十分に高まらなければ、将来的な技術ロードマップの遂行においてボト Copyright © QYResearch | [email protected] |https://www.qyresearch.co.jp

QYResearch – グローバル市場の最新洞察 ルネックとなり、開発スピードや量産規模に制約をもたらす可能性がある。 3.産業エコシステムの単一性と下流基盤の脆弱性 日本国内には先端ロジック半導体の大規模量産ラインが限られており、EUV フォトレジストの試験・検証 環境が十分ではない。このため、新材料の性能評価、パラメータ最適化、量産前検証を国内で迅速に進 めることが難しい場合がある。こうした産業エコシステムの構造的制約により、日本の EUV フォトレジ ストは技術面で優位性を保持しつつも、完全かつ高速な開発サイクルの構築が難しく、一部製品の市場 投入が遅れる可能性がある。 【まとめ】 本記事では、製品としての EUV フォトレジストに焦点を当て、その市場における成長ドライバー、発展 機会、阻害要因の 3 点を中心に、注目される背景と市場が直面する主な課題を簡潔に整理しています。 EUV フォトレジスト市場を取り巻く現状を、短い読み物として手軽に把握できる内容となっています。 一方、本製品に関する完全版レポートでは、これらの概要に加えて、EUV フォトレジスト市場の規模や成 長予測、地域別・用途別・製品タイプ別の需要特性、潜在リスクや構造的課題、主要企業の競争環境、技 術開発動向、さらにサプライチェーン分析や市場機会の詳細評価までを体系的に収録しており、EUV フォ トレジスト市場を総合的に理解し、実務的な戦略立案に活用できる内容となっています。 【EUV フォトレジストの詳細内容・無料サンプルお申込みはこちら】 https://www.qyresearch.co.jp/reports/1626873/euv-photoresists QYResearch 会社概要 QYResearch（QY リサーチ）は、2007 年の創業以来、豊富な市場調査・コンサルティング経験を有し、グ ローバルネットワークを通じて多分野・多業界の市場情報を提供しています。当社は、市場調査レポート、 企業戦略コンサルティング、IPO 支援、委託調査などを展開し、アメリカ、日本、韓国、中国、ドイツ、 Copyright © QYResearch | [email protected] |https://www.qyresearch.co.jp

• https://www.qyresearch.co.jp/reports/1626873/euv-photoresists

QYResearch – グローバル市場の最新洞察 インド、スイス、ポルトガルの拠点から、世界 160 カ国以上、6 万社以上の企業に情報を届けています。 地域特化型分析、継続的なデータ更新・追跡体制、再利用性・カスタマイズ性に優れたレポート設計によ り、世界動向と地域要因を統合した高精度の洞察を提供。定期更新と長期モニタリングで、企業の安定 した意思決定を支援するとともに、用途別に柔軟に活用できる点も高く評価されています。 本件に関するお問い合わせ先 QY Research 株式会社：https://www.qyresearch.co.jp 日本の住所： 〒104-0061 東京都中央区銀座 6-13-16 銀座 Wall ビル UCF５階 TEL：050-5893-6232（日本）；0081-5058936232（グローバル） マーケティング担当： [email protected] Copyright © QYResearch | [email protected] |https://www.qyresearch.co.jp

• https://www.qyresearch.co.jp